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概要 | 「nMOS集積回路の製作と集積回路設計の基礎」をテーマに参加者各自が自身の手でSiウェハを扱い、半導体(LSI)設計・製造から評価までを一貫してLSI工場内での実習を中心に学ぶことで、半導体技術の全体像を理解する。 |
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期間・日程 | 7 月23 日(月)~7 月27 日(金)(5日間:45時間) |
会場 | 本学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー |
対象(※講座のレベル) | 大学卒業程度の知識を有する技術者 ※学部レベル |
募集人員 | 10名(5名) |
受講料(円) | 250,000円 |
講師 | 澤田和明・飛沢健・赤井大輔 |
連絡先 ①部署名 ②TEL ③メールアドレス ④詳細説明URL |
①電気・電子情報工学系 集積電子システム工学分野 ③vbl-office@vbl.tut.ac.jp ④http://www.int.ee.tut.ac.jp/ic/ |
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