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講師 | 電気・電子情報工学系 集積電子システム分野、エレクトロニクス先端融合研究所、技術支援室:先端融合研究支援チーム |
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概要 | 「nMOS 集積回路の製作と集積回路設計の基礎」をテーマに参加者各自が自身の手でSi ウェハを扱い、半導体(LSI) 設計・製造から評価までを一貫してLSI工場内での実習を中心に学ぶことで、半導体技術の全体像を理解する。 |
期間・日程 | 7月22日(月)~7月26日(金)(5日間:45 時間) ※終了いたしました |
募集人員 | 10 名(最小催行人数5名)学部レベル |
受講料 | 250,000円 |
申込方法 | 申込書に必要事項を記載のうえ、E-mailにてお申込ください。 申込書(ダウンロード) |
申込期日 | 7月5日(金) |
連絡先 |
研究支援課 社会連携支援室 |
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